Фазовая маска 0/-1 порядка (NFH)

В наличии на складе (СПб)

По запросу

Общее описание

Метод Nearfield Holography (NFH) (NFH - ближнепольная голография) позволяет осуществить бюджетное производство решеток на плоских пластинах. Для реализации данной технологии требуется специальная фазовая маска. Для удобного эксплуатирования маски, она помещается в специальное приспособление для совмещения фотошаблонов (например, от Süss MicroTec) с обычным УФ-источником в качестве источника освещения. Эта техника обладает рядом производственных преимуществ перед методами производства решеток с помощью голографии или электронного луча. Этот метод также целесообразен в ряде других приложений. где требуются фазовые маски с мелким шагом, например, в телекоммуникационной и сенсорной промышленности. Ключевые особенности: Шаг для фазовых масок до 260 нм Точность и однородность периода - больше 0,01 нм Без ошибок при сшивании Могут быть адаптированы под желаемую длину волны освещения На каждую фазовую маску наносятся её параметры, такие как серийный номер АО «ЛЛС» является дистрибьютором компании Ibsen Photonics на территории Российской Федерации и стран Таможенного Союза, и предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции, полную техническую поддержку.

Применение

DFB лазеры
DBR лазеры
Интегрированная геометрическая оптика
Датчики
Биочипы